Préparer l'avenir
La R&D est une activité majeure pour préparer l'avenir de nos solutions. Nous développons cette activité à la fois en interne, dans le cadre de projets collaboratifs ainsi qu'en participant aux projets de R&D de nos clients.
Ces travaux nous permettent d'enrichir notre offre framework A²ECF ainsi que notre expertise.
Domaines de recherche
Nous développons continuellement nos compétences dans nos domaines d'expertise et nous nous préparons à relever les défis du futur pour nos clients:
- Industrie 4.0
- OPC UA
- Standards SEMI
- Jumeaux numériques
- Machine learning
- Intelligence artificielle
- IDM : Ingénierie dirigée par les modèles
- Modèles pour les frameworks logiciels
- Advanced Manufacturing et Closed Loop Manufacturing
Les défis que nous relevons sont :
- L'interopérabilité
- L'optimisation des performances
- La portabilité des solutions dans divers domaines industriels
- La planification des flux de travail
- L'impact environnemental des moyens de production
Interopérabilité et standardisation
Nous participons à de nombreux groupes de travail pour la standardisation des échanges entre machines et les systèmes informatiques des usines:
- OPC UA au sein d'OPC Foundation
- Groupe de travail "I4AAS"
- Groupe de travail "Machine Tools (UMATI)"
- Groupe de travail "UA for Machinery"
- Groupe de travail "Asset management" (co-éditor)
- Groupe de travail "Harmonization"
- Groupe de travail "OPC UA Core"
- Au sein de SEMI
- Contribution à l'élaboration des standards SEMI
- Groupe de travail "GEM300"
- Formations sur les normes SEMI
Projets collaboratifs
- Productive 4.0
- Travail sur l'évaluation de l'OPC UA pour le domaine des semi-conducteurs
- Projet H2020 de l'ESCEL-JU
- Preuves de concepts et démonstrations préparées pour le projet
- Publications dans les conférences de l'IEEE
- OEDIPUS
- Développement d'une passerelle OPC UA pour un robot collaboratif qui pourrait communiquer en Modbus. Solution intégrée à Seimens MindSphere.
- Projet numérique de l'EIT
Nous collaborons avec de nombreux partenaires
Des publications scientifiques
Nous publions régulièrement des articles dans des conférences internationales sur nos travaux:
- "Towards building OPC-UA companions for semi-conductor domain" publié conjointement avec le CEA lors de la conférence IEEE Emerging Technologies and Factory Automation (ETFA)
- "Multi-level modeling to OPC UA for migrating to Industry 4.0 in semiconductor manufacturing" publié conjointement avec le CEA lors de la conférence IEEE Industrial Cyberphysical Systems (ICPS)
